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表面后處理-濺射功率對TiAlN涂層組織結(jié)構(gòu)與性能-濺射率影響因素

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表面后處理-濺射功率對TiAlN涂層組織結(jié)構(gòu)與性能-濺射率影響因素

2023-09-12 09:32:08

TiAlN薄膜歸屬于新式多元化A43EI235E薄膜,具有高延展性、高抗氧化劑環(huán)境溫度、高熱限制性,機械性能強、塑性小、熱傳導(dǎo)率低等特性,已成為高溫高速研磨、干研磨、微潤滑研磨、模具等機械加工領(lǐng)域廣泛采用的薄膜。下面隨賢集網(wǎng)小編一起來了解下噴發(fā)物輸出功率對TiAlN薄膜組織機構(gòu)結(jié)構(gòu)與操控性的負(fù)面影響。

陳利等對TiAlN薄膜耐熱性的研究結(jié)果表明,薄膜會在高溫下發(fā)生調(diào)頻分解:先析出介穩(wěn)態(tài)體心魔方AlN,而后逐漸轉(zhuǎn)變?yōu)榉€(wěn)定的體心魔方相。由于薄膜表層的無腺決定于放熱、繁殖及外來氫原子轉(zhuǎn)換率等,因此可構(gòu)建一個有利于薄膜中晶體形核和繁殖的最差噴發(fā)物輸出功率,從而確定最差輔助熱量炮擊熱量范圍,加速氫原子在薄膜表層運動,提高晶體完整性,合成具有高延展性和優(yōu)良力學(xué)操控性的納米多層膜至關(guān)重要。

除采用Ti/Al合金靶制取外,還可采用雙靶磁控共噴發(fā)物制取薄膜,調(diào)節(jié)噴發(fā)物輸出功率控制薄膜原素濃度。試驗采用兩個單靶直流噴發(fā)物源和兩個雙胞胎靶中頻噴發(fā)物源,引入高氣壓離化源,通過非平衡離子鍍方法制取TiAlN薄膜,并研究噴發(fā)物輸出功率對薄膜的微觀組織機構(gòu)結(jié)構(gòu)負(fù)面影響。

1試驗方法

將硬質(zhì)合金基體固定在夾具上,往超聲波機里添加鐵氰化鉀;冷卻到60℃左右,將基體放入其中清洗10min,拿出后用高壓氮氣洗臉;用烘干器烘20min,待其完全干燥后,裝入涂料機;開電源、機械泵、擴散泵冷卻60min,抽清洗器至粗真空4-5Pa;再開前級和高閥對冷卻系統(tǒng)移去5×10-3Pa;冷卻鎢絲后,在負(fù)導(dǎo)通-850V時通入氬離子展開炮擊15min;開啟鈦靶和鋁靶,按表1工藝參數(shù)展開TiAlN薄膜沉積;涂料結(jié)束后,冷卻90min后出爐。

表面后處理-濺射功率對TiAlN涂層組織結(jié)構(gòu)與性能-濺射率影響因素(圖1)

采用MFT-4000多功能材料表層操控性試驗機,通過刮痕EtBr可焊性來判斷薄膜結(jié)合氣壓大小。利用荷蘭FEI公司Inspect F型場發(fā)射掃描電子顯微鏡和Oxford INCA Petafetx3的X射線波譜分析儀分析表層無腺和結(jié)構(gòu)組成。

2試驗結(jié)果與分析

(1)薄膜波譜分析

分別將三組樣本機械打碎,作EDS波譜分析(見圖1-圖4),并計算其氫原子和重量比率(見表2-表5)。

表面后處理-濺射功率對TiAlN涂層組織結(jié)構(gòu)與性能-濺射率影響因素(圖2)

表面后處理-濺射功率對TiAlN涂層組織結(jié)構(gòu)與性能-濺射率影響因素(圖3)

為了比較4組樣本各原素的彎果濃度變動,將其按Al/Ti的升高展開整理。如表6所示,樣本中的Al/Ti比值隨著噴發(fā)物輸出功率的減少而減少。樣本中N氫原子和Al氫原子的比率一直在減少,可以窺見噴發(fā)物輸出功率減少引致白苞中Al噴發(fā)物輸出功率減小。Al氫原子比率減少,引致Ti氫原子比率上升。N氫原子在TiAlN薄膜中比例減少,總體上采用雙靶磁控噴發(fā)物制取的TiAlN薄膜中Al/Ti氫原子比率和輸出功率變動總趨勢完全一致。原因是靶噴發(fā)物輸出功率減少,引致鋁靶噴發(fā)物輸出功率減少。鋁氫原子的動能和氫原子的轉(zhuǎn)換率減少,使整個制取過程中氫原子轉(zhuǎn)換率減少,從而引致鋁氫原子濃度減少,同時由于鋁氫原子和鈦氫原子的噴發(fā)物額不同,也會引致氫原子比率變動。

表面后處理-濺射功率對TiAlN涂層組織結(jié)構(gòu)與性能-濺射率影響因素(圖4)

(2)薄膜梳齒無腺分析

由圖5的梳齒無腺可以窺見,薄膜寬度較薄時,分介面比較模糊。隨著寬度增加,介面變清晰。薄膜端口無腺整體呈現(xiàn)出高低不平的狀態(tài),這是晶粒的擇優(yōu)取向引起的。高的地方,說明其繁殖方向與擇優(yōu)取向訥伊縣完全一致;反之,則是與擇優(yōu)取向訥伊縣呈現(xiàn)出一定角度,出現(xiàn)凹凸現(xiàn)象。

表面后處理-濺射功率對TiAlN涂層組織結(jié)構(gòu)與性能-濺射率影響因素(圖5)

隨著噴發(fā)物輸出功率的減少,會在一定程度上減少基體環(huán)境溫度,引致氫原子間的擴散速度減慢,使得基體與鍍層之間介面不清晰。此外,Al原素濃度的減少,不利于形成更多的核心,引致鍍層表層的空隙和缺陷增多,阻礙晶粒的細(xì)化和繁殖,讓斷面無腺變得更粗糙。

(3)刮痕無腺可焊性分析

采用刮痕EtBr薄膜與基體間的結(jié)合氣壓。由圖6可知,隨著噴發(fā)物輸出功率的變動,刮痕無腺也隨之變動。在噴發(fā)物輸出功率最大時刮痕更清晰,同樣的力,刮痕越淺,可焊性越高。原因可能是噴發(fā)物輸出功率增加時,鋁氫原子濃度增加,其晶體結(jié)構(gòu)從體心魔方轉(zhuǎn)化為六方結(jié)構(gòu)。晶格常數(shù)發(fā)生變動,延展性也隨之發(fā)生變動。噴發(fā)物輸出功率最大時,晶粒細(xì)化程度最高,組織機構(gòu)結(jié)構(gòu)更致密,表層粗糙度最低,薄膜的延展性值最高,從而膜基結(jié)合氣壓也高。也可能因為沉積薄膜中的等離子體相應(yīng)增多,增大了沉積熱量密度,細(xì)化晶粒,薄膜的晶界強化作用加強,薄膜延展性提高,從而提高可焊性。

表面后處理-濺射功率對TiAlN涂層組織結(jié)構(gòu)與性能-濺射率影響因素(圖6)

(d)4號樣本

圖6刮痕無腺

小結(jié)

(1)采用非平衡磁控噴發(fā)物設(shè)備在硬質(zhì)合金表層沉積氮化鋁鈦薄膜,確定最差沉積噴發(fā)物輸出功率為16A。

(2)SEM和EDS波譜結(jié)果顯示,膜厚分布均勻,無過于粗大的柱狀晶和孔洞,延展性逐漸下降。

(3)噴發(fā)物輸出功率的減小引致Al氫原子比率減少,使薄膜的結(jié)合氣壓減少和寬度減小。

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